연마

Grinding/Polishing

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Chem-Pol

  • Dense, non-woven, low-nap porous polyurethane for chemical/mechanical polishing using diamond (1-0.02 micron), colloidal suspensions or alumina. This long-lasting cloth provides an excellent final polish for a wide variety of materials.

제품 사용법 및 사양

  • 다양한 종류의 연마천은 모든 종류의 재료에 대한 미세 연삭 (fine grinding), 거친연마 (coarse polishing), 중간연마 (intermediate polishing), 마무리연마 (final polishing)에 사용된다. 일반 플레이튼용 접착식 (Adhesive)과 마그네틱 플레이튼용으로 금속판 (Rigid) 마크네틱 타입과 유연한 (Flexible) 마그네틱 타입이 있다.
  • 낮은 냅의 다공성 폴리우레탄으로 만들어진 조밀한 부직물로 화학적-기계적 폴리싱을 위해 콜로이달 서스펜션 또는 알루미나 (1 ~ 0.02 μm)와 사용된다. 이 내구성이 좋은 연마천은 다양한 재료의 최종연마 (final polishing)에 탁월한 결과를 제공한다.

제품 LIST

사진 제품번호 수량 설명
180-10045 Chem-Pol Adhesive Back Disc, 2-7/8
180-10050 Chem-Pol Adhesive Back Disc, 8" (Pk/5)
180-10058 Chem-Pol Adhesive Back Disc, 10" (Pk/5)
180-10060 Chem-Pol Adhesive Back Disc, 12" (Pk/5)
180-10065 Chem-Pol Adhesive Back Disc, 14" (Pk/5)
180-10550 Chem-Pol Flexible Magnetic System Back Disc, 8" (Pk/5)
180-10558 Chem-Pol Flexible Back Magnetic System Disc, 10" (Pk/5)
180-10560 Chem-Pol Flexible Back Magnetic System Disc, 12" (Pk/5)
180-10750 Chem-Pol Rigid Back Magnetic System Disc, 8" (Pk/5)
180-10758 Chem-Pol Rigid Back Magnetic System Disc, 10" (Pk/5)
180-10760 Chem-Pol Rigid Back Magnetic System Disc, 12" (Pk/5)
180-10765 Chem-Pol Rigid Back Magnetic System Disc, 14" (Pk/5)

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